[发明专利]一种纳米多层膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201711104256.7 | 申请日： | 2017-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN107841716B | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 周灵平;谢添乐;符立才;杨武霖;朱家俊;李德意 | 申请（专利权）人： | 湖南大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14;C23C14/16 |
| 代理公司： | 43113 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 马强;蒋尊龙<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 410082湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供一种纳米多层膜及其制备方法，该制备方法采用真空溅射技术，溅射仪内设有样品台和溅射靶，至少两个溅射靶同时向同一样品台共同溅射沉积，其中，至少一个溅射靶的靶材为扩散元素，至少一个溅射靶的靶材为扩散阻挡元素或扩散阻挡化合物；当共同溅射沉积时，样品台自转。共沉积制备纳米多层膜时，两个或多个靶都是同时聚焦于同一样品台上，无需进行不同样品台间的切换即可制得多层膜。该方法效率高，成本较低。共沉积得到的是固溶体纳米多层膜，并非不同晶体结构的纯Cu和纯W膜机械的叠加，而是界面呈半共格或者共格关系，界面浸润，有利于提高薄膜的塑韧性及稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 多层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米多层膜的制备方法，采用磁控溅射技术，磁控溅射仪内设有样品台和溅射靶，其特征在于，至少两个溅射靶同时向同一样品台共同溅射沉积，其中，至少一个溅射靶的靶材为扩散元素，至少一个溅射靶的靶材为扩散阻挡元素或扩散阻挡化合物；当共同溅射沉积时，样品台自转；/n将衬底置于离样品台中心不同距离的位置进行沉积，以调节纳米多层膜中相同成分的膜之间的间距；/n溅射靶A和溅射靶B对称分布于样品台的两侧，调整两靶的角度与距离使两靶共聚焦于样品台的中心。/n
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