[发明专利]用于化学机械研磨工艺模型建模的测试图形有效
| 申请号： | 201711102787.2 | 申请日： | 2017-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN107908854B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 姜立维;曹云;魏芳 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398;G06F119/18 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于化学机械研磨工艺模型建模的测试图形，除了包括现有以线/线间隔为组元的单一测试图形结构，还提供一种包括两种组元的双重测试结构。变化双重测试结构中两种组元的密度、线宽、线间距以及周长等几何特征，可以得到差异的目标图形几何特征与周围图形几何特征，从而可以更好的引入目标区域周围图形的几何特征影响，进而提高了化学机械研磨工艺模型的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 研磨 工艺 模型 建模 测试 图形 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械研磨工艺模型建模的测试图形，包括：单一测试结构，其特征在于，还包括：双重测试结构。
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