[发明专利]碲镉汞焦平面探测器芯片的应力释放方法及碲镉汞焦平面探测器芯片在审
申请号: | 201711000421.4 | 申请日: | 2017-10-24 |
公开(公告)号: | CN107978654A | 公开(公告)日: | 2018-05-01 |
发明(设计)人: | 谭振;孙浩;张敏;刘世光 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/09 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心11010 | 代理人: | 于金平 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种大面阵凝视型碲镉汞焦平面探测器芯片的应力释放方法及碲镉汞焦平面探测器芯片,本发明通过在大面阵凝视型碲镉汞焦平面探测器芯片上刻蚀浅槽,通过隔离槽将大面阵芯片“分割”为多个小面阵区域,小面阵的面积变小,应力降低;同时可以随浅沟槽自由伸缩释放应力,避免芯片碎裂。 | ||
搜索关键词: | 碲镉汞焦 平面 探测器 芯片 应力 释放 方法 | ||
【主权项】:
一种大面阵凝视型碲镉汞焦平面探测器芯片的应力释放方法,其特征在于,包括:通过接触式光刻,在碲镉汞膜层上形成均匀分布的浅槽图形;通过电感耦合等离子体工艺刻蚀带有光刻图形的碲镉汞薄膜;通过电感耦合等离子体工艺刻蚀碲镉汞,形成浅槽。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的