[发明专利]一种显示器的基板的制造方法及光罩在审
| 申请号： | 201710884143.7 | 申请日： | 2017-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN107703714A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 杨昆;王幸 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙)44238 | 代理人： | 潘中毅,熊贤卿 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显示器的基板的制造方法，所述方法包括提供一基板本体；在所述基板本体上涂覆光阻层；利用曝光机多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积；对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。本发明还公开了相应的光罩。实施本发明，可以对光线重叠区的曝光图案进行补值，从而获得更加准确的曝光图案，能够提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示器 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种显示器的基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：提供一基板本体；在所述基板本体上涂覆光阻层；利用曝光机的多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积；对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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