[发明专利]静态随机存取存储器的布局图案有效

专利信息
申请号: 201710864959.3 申请日: 2017-09-22
公开(公告)号: CN109545252B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 王淑如;龙镜丞;郭有策;陈建宏;黄俊宪;黄莉萍;曾俊砚;庄孟屏 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: G11C5/02 分类号: G11C5/02;H01L27/02;H01L27/11
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种静态随机存取存储器(static random‑access memory,SRAM)的布局图案,包含一基底,一第一上拉晶体管(PL1)、一第一下拉晶体管(PD1)、一第二上拉晶体管(PL2)以及一第二下拉晶体管(PD2)位于该基底上,另包含一第一存取晶体管(PG1A),一第二存取晶体管(PG1B),第三存取晶体管(PG2A)以及一第四存取晶体管(PG2B),其中该PG1A与该PG1B包含有一相同的第一鳍状结构,该PG2A与该PG2B包含有一相同的第二鳍状结构,一第一区域连接层,位于该PG1A与该PG1B之间,且位于该PL1与该PD1所包含的该鳍状结构上,以及一第二区域连接层,位于该PG2A与该PG2B之间,且位于PL2与该PD2所包含的该鳍状结构上。
搜索关键词: 静态 随机存取存储器 布局 图案
【主权项】:
1.一种静态随机存取存储器(static random‑access memory,SRAM)的布局图案,包含:基底;第一反相器,包含有第一上拉晶体管(PL1)以及第一下拉晶体管(PD1)位于该基底上;第二反相器,包含有第二上拉晶体管(PL2)以及第二下拉晶体管(PD2)位于该基底上,其中该第一反相器与该第二反相器互相耦合;第一存取晶体管(PG1A)及第二存取晶体管(PG1B)与该第一反相器输出端连接,一第三存取晶体管(PG2A)以及一第四存取晶体管(PG2B)与该第二反相器输出端连接,其中该PG1A的一栅极与该PG2A的一栅极连接至一第一字符线,该PG1B的一栅极与该PG2B的一栅极连接至一第二字符线;各晶体管都包含有栅极结构跨越至少一鳍状结构,其中该PG1A与该PG1B包含有相同的第一鳍状结构,该PG2A与该PG2B包含有一相同的第二鳍状结构;第一区域连接层,位于该PG1A与该PG1B之间,且位于该PL1与该PD1所包含的该鳍状结构上;以及第二区域连接层,位于该PG2A与该PG2B之间,且位于该PL2与该PD2所包含的该鳍状结构上。
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