[发明专利]光敏交联剂及其制备方法、用途有效
| 申请号： | 201710842707.0 | 申请日： | 2017-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN107602886B | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 刘影;孙文建;赵家庆;张清;郭小军 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C08J3/24 | 分类号： | C08J3/24;C08J3/28;C07C69/76;C07C67/14;C09K11/06;H01L51/10;H01L51/30;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 郭国中 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光敏交联剂及其制备方法、用途。所述光交联剂为支状苯二酮类光交联剂。本发明制备得到的交联剂能够通过UVA光照射，在很短的光照时间内，不需要催化剂，不产生副产物的条件下就能实现有效的交联过程。采用本发明的新型的光交联方法，仅需交联剂与基体材料简单混合后紫外辐射即可制备交联的聚合物材料。本发明所得的交联绝缘层材料适合溶液法制备各种有机场效应晶体管器件，是一种性能优异的交联的聚合物绝缘层材料。本发明所得的交联空穴传导层材料适合各种有机电致发光显示器件中溶液法制备有机薄膜，是一种性能优异的交联的聚合物空穴传导层材料。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 交联剂 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
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