[发明专利]闪存及闪存的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710676345.2 申请日: 2017-08-09
公开(公告)号: CN107393925A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 于涛 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/11521 分类号: H01L27/11521
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种闪存及闪存的制备方法,所述浮栅结构的第一浮栅尖端与所述衬底的源极接触,所述浮栅结构的第二浮栅尖端与所述衬底的漏极接触,在擦除浮栅中存储的数据时,由于浮栅尖端是对准源极和漏极的,源极和漏极又与位线相连,可以通过位线擦除的方式,即在位线上施加正向电压,在控制栅上施加负向电压,既提高擦除效率,又降低擦除电压、减小了功耗。
搜索关键词: 闪存 制备 方法
【主权项】:
一种闪存,其特征在于,所述闪存包括衬底及形成于衬底上的栅极结构,所述衬底中形成有源极和漏极;所述栅极结构包括第一浮栅、第二浮栅、第一控制栅和第二控制栅,所述第一控制栅位于所述第一浮栅上,所述第二控制栅位于所述第二浮栅上;所述第一浮栅形成有第一浮栅尖端,所述第二浮栅形成有第二浮栅尖端;所述第一浮栅尖端与所述源极接触,所述第二浮栅尖端与所述漏极接触。
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