[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法有效
| 申请号： | 201710646237.0 | 申请日： | 2017-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN107680896B | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 小川淳;矢部和雄 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/40;C23C16/455 |
| 代理公司： | 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 基板处理装置以及基板处理方法，在将以棚架状地保持有多个基板的基板保持件搬入立式的处理容器内来进行等离子体处理时，在各基板的面内进行均匀性高的处理。基板处理装置具有：凸部(41)，其以处理容器(11)的侧周壁向外侧鼓出的方式形成与用于容纳基板保持件(3)并进行处理的处理空间(13)连通的纵长空间；气体喷出部(62)，其设置于纵长空间，用于向处理空间喷出处理气体；以及天线(42)，其沿纵向设置在所述凸部，被供给高频电力使得在纵长空间内将处理气体等离子体化。而且，在该装置具有屏蔽件(7)，该屏蔽件在凸部从比天线靠近处理空间的位置向左右分别延伸，用于屏蔽由天线形成的电场来抑制在处理空间中形成等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 处理空间 凸部 纵长 基板处理装置 基板保持件 处理气体 处理容器 屏蔽件 天线 等离子体 等离子体处理 等离子体化 气体喷出部 电场 多个基板 高频电力 基板处理 天线形成 纵向设置 侧周壁 均匀性 屏蔽 搬入 鼓出 基板 喷出 棚架 连通 容纳 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，将以棚架状地保持有多个基板的基板保持件搬入立式的处理容器内，供给处理气体来进行处理，该基板处理装置的特征在于，具备：/n凸部，其以所述处理容器的侧周壁向外侧鼓出的方式形成与用于容纳所述基板保持件并进行处理的处理空间相连通的纵长的空间；/n气体喷出部，其设置于所述纵长的空间，用于向所述处理空间喷出所述处理气体；/n天线，其沿纵向被设置在所述凸部中，被供给高频电力使得在所述纵长的空间内将所述处理气体等离子体化；以及/n屏蔽件，其在所述凸部从比所述天线靠近所述处理空间的位置向左右分别延伸，用于屏蔽由所述天线形成的电场来抑制在所述处理空间内形成等离子体。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710646237.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：同轴缆衰减模拟装置
- 下一篇：静电放电保护器件、半导体装置及制造方法
