[发明专利]坩埚、蒸镀装置及蒸镀方法有效
| 申请号： | 201710623729.8 | 申请日： | 2017-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN107190236B | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 卜斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王卫忠;姜怡 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种坩埚、蒸镀装置及蒸镀方法，属于蒸镀技术领域，坩埚包括：坩埚本体、传感机构、控制机构和调节机构，坩埚本体具有多个蒸发口以及腔体，腔体用于容置蒸镀材料；传感机构设置在蒸发口周围，用于检测不同区域蒸镀材料的实际镀率；控制机构与传感机构连接，用于根据实际镀率与目标镀率计算调节参数，将调节参数发送给调节机构，调节参数为挡板的旋转角度；调节机构与控制机构连接，调节机构设置在腔体内，用于根据调节参数调节对应区域蒸镀材料的镀率。该坩埚采用对坩埚不同区域蒸发口处的实际镀率进行检测，并根据实际镀率与目标镀率计算调节参数以实现快速调整镀率，从而可以提高坩埚内材料的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种坩埚，其特征在于，包括：坩埚本体，具有多个蒸发口以及腔体，所述腔体用于容置蒸镀材料；传感机构，设置在所述蒸发口周围，用于检测不同区域所述蒸镀材料的实际镀率；控制机构，与所述传感机构连接，用于根据所述实际镀率与目标镀率计算调节参数；调节机构，与所述控制机构连接，所述调节机构设置在所述腔体内，用于根据所述调节参数调节对应区域所述蒸镀材料的镀率；其中所述调节机构包括M个分布在不同区域内分段式的挡板，其中M大于等于2，所述控制机构将所述调节参数发送给所述调节机构，所述调节参数为所述挡板的旋转角度。
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