[发明专利]制备光刻胶-石墨烯量子点的发光复合体系的方法有效
| 申请号： | 201710594613.6 | 申请日： | 2017-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN107446577B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 邹应全;薛兵 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C09K11/65 | 分类号： | C09K11/65;C09K11/02;G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李小梅;刘金辉 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种制备光刻胶‑石墨烯量子点的发光复合体系的方法，其包括：1)提供包含石墨烯量子点和光刻胶的混合物；2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光；和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分，得到光刻胶‑石墨烯量子点的发光复合体系。本发明还涉及由该方法得到的光刻胶‑石墨烯量子点的发光复合体系及其用途。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 量子点 石墨烯 复合体系 发光 混合物 制备 显影液处理 掩模图形 曝光 未交联 | ||
【主权项】：
1.一种制备光刻胶‑石墨烯量子点的发光复合体系的方法，其包括：1)提供包含石墨烯量子点和光刻胶的混合物；2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光；和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分，得到光刻胶‑石墨烯量子点的发光复合体系。
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