[发明专利]测试接口板组件及其制造方法有效
申请号: | 201710546928.3 | 申请日: | 2017-07-06 |
公开(公告)号: | CN109148357B | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
发明(设计)人: | 李文聪;谢开杰 | 申请(专利权)人: | 台湾中华精测科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/522;H01L23/528 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;章侃铱 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种测试接口板组件及其制造方法。测试接口板组件包括一介电层、一第一线路层、一扩增层、一导电结构及一第二线路层。介电层具有一第一表面及一相对于第一表面的第二表面。第一线路层嵌设于介电层之中,第一线路层具有一裸露表面,第一线路层的裸露表面低于或齐平于介电层的第一表面。扩增层设置于介电层的第二表面。导电结构设置于介电层与扩增层之间,且导电结构电性连接于第一线路层。第二线路层通过导电结构而电性连接于第一线路层。借此,本发明达到了提升可靠度及电连接品质的效果。 | ||
搜索关键词: | 测试 接口 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种测试接口板组件的制造方法,其特征在于,所述测试接口板组件的制造方法包括:提供一基底,所述基底具有一表面;形成一第一线路层于所述基底的所述表面上;形成一介电层以覆盖所述第一线路层与所述基底的所述表面;形成一第一导电结构以电性连接于所述第一线路层;形成一扩增层以覆盖所述介电层与所述第一导电结构,使得所述第一导电结构位于所述介电层与所述扩增层之间;形成一第二导电结构以电性连接于所述第一导电结构;形成一防焊层于所述扩增层上,且所述防焊层覆盖所述第二导电结构;形成一第二线路层于所述防焊层上,且所述第二线路层电性连接于所述第二导电结构;以及移除其中一部分的所述基底,以裸露所述第一线路层的一裸露表面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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