[发明专利]一种种植红薯的方法

摘要

本发明提供一种种植红薯的方法，包括如下步骤1)平地选择在质地疏松，排水良好的山地，土壤pH在6.8‑7.2，土层深度在40‑50cm，去除杂草，平整土地；2)刨土开挖步骤1)的土层进行刨土操作，刨土深度为30‑50cm，开挖栽植穴的深度为30‑40cm，每行种植的行间距为200‑300cm，并施加水，使表面土壤湿润即可；3)施肥在红薯茎幼苗种植之前，每个栽植穴底部施入氮肥，并在种植的幼苗根部填盖砂石10‑20cm；于竖年施肥1‑2次；4)灌溉红薯茎幼苗每10‑12天浇水一次，每次浇足。通过本发明提供的种植方法能够有效降低红薯的种植生长周期，便于农业上推广。

主权项

一种种植红薯的方法，其特征在于，包括如下步骤：1)平地：选择在质地疏松，排水良好的山地，土壤pH在6.8‑7.2，土层深度在40‑50cm，去除杂草，平整土地；2)刨土：开挖步骤1)的土层进行刨土操作，刨土深度为30‑50cm，开挖栽植穴的深度为30‑40cm，每行种植的行间距为200‑300cm，并施加水，使表面土壤湿润即可；3)施肥：在红薯茎幼苗种植之前，每个栽植穴底部施入氮肥，并在种植的幼苗根部填盖砂石10‑20cm；于竖年施肥1‑2次；4)灌溉：红薯茎幼苗每10‑12天浇水一次，每次浇足；所述的步骤1)中选用的山地为向阴面的山地，所述的红薯茎幼苗种植过程要每月对栽植进行松土除草处理，所述施肥步骤中基肥的原料配比为复合肥：磷肥＝3:1，所述的红薯茎幼苗为普通红薯茎顶部的1/3部位，所述栽植步骤中的栽植穴在耕种前喷洒杀虫剂和杀菌剂。