[发明专利]一种种植红薯的方法在审
申请号: | 201710522266.6 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN107087494A | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 任红 | 申请(专利权)人: | 任红 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01B79/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 235000 安徽省淮*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 种植 红薯 方法 | ||
技术领域
本发明涉及种植领域,具体涉及一种种植红薯的方法。
背景技术
红薯,又称番薯、地瓜、山芋、红苕等,在16世纪传入我国,至今栽培历史不到500年。红薯味道甜美,营养丰富,又易于消化,可供给大量热能,所以有的地区把它作为主食。红薯是海南“大米”,沿海渔村习惯以红薯为主食。
红薯碳水化合物含量高(23.1%),所含热能也高(100克鲜红薯可产生99千卡热量),但不含脂肪。此外,红薯还富含膳食钎维、生物类黄酮、维生素C、维生素A、维生素Bl、钾、胡萝卜素等营养元素。具有多种要求用价值,且食用的方法较多,适用于不同年龄食用。
然而现在种植红薯的周期较长,不能满足现在市场的大量需求。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了一种种植红薯的方法,能够有效降低红薯的种植生长周期,便于农业上推广。
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:
一种种植红薯的方法,包括如下步骤:
1)平地:选择在质地疏松,排水良好的山地,土壤pH在6.8-7.2,土层深度在40-50cm,去除杂草,平整土地;
2)刨土:开挖步骤1)的土层进行刨土操作,刨土深度为30-50cm,开挖栽植穴的深度为30-40cm,每行种植的行间距为200-300cm,并施加水,使表面土壤湿润即可;
3)施肥:在红薯茎幼苗种植之前,每个栽植穴底部施入氮肥,并在种植的幼苗根部填盖砂石10-20cm;于竖年施肥1-2次;
4)灌溉:红薯茎幼苗每10-12天浇水一次,每次浇足;
所述的步骤1)中选用的山地为向阴面的山地,所述的红薯茎幼苗种植过程要每月对栽植进行松土除草处理,所述施肥步骤中基肥的原料配比为复合肥:磷肥=3:1,所述的红薯茎幼苗为普通红薯茎顶部的1/3部位,所述栽植步骤中的栽植穴在耕种前喷洒杀虫剂和杀菌剂。
本发明提供了一种种植红薯的方法,通过步骤的平地、刨土、施肥、灌溉操作,大大降低红薯的种植生长周期,平地、刨土操作,使得红薯茎幼苗在生长过程中,便于根部在土壤中接触,以便吸收更多的营养成分,且施肥有利于根部的生长,同时便于农业上的操作,整个山间种植红薯的方法能有效降低红薯的种植生长周期,可在农业上被广泛推广应用。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明的实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1:
本实施例提供一种种植红薯的方法,包括如下步骤:
1)平地:选择在质地疏松,排水良好的山地,土壤pH在6.8-7.2,土层深度在40-50cm,去除杂草,平整土地;
2)刨土:开挖步骤1)的土层进行刨土操作,刨土深度为30-50cm,开挖栽植穴的深度为30-40cm,每行种植的行间距为200-300cm,并施加水,使表面土壤湿润即可;
3)施肥:在红薯茎幼苗种植之前,每个栽植穴底部施入氮肥,并在种植的幼苗根部填盖砂石10-20cm;于竖年施肥1-2次;
4)灌溉:红薯茎幼苗每10-12天浇水一次,每次浇足。
实施例2:
本实施例提供一种种植红薯的方法,包括如下步骤:
1)平地:选择在质地疏松,排水良好的山地,土壤pH在6.8-7.2,土层深度在40-50cm,去除杂草,平整土地;
2)刨土:开挖步骤1)的土层进行刨土操作,刨土深度为30-50cm,开挖栽植穴的深度为30-40cm,每行种植的行间距为200-300cm,并施加水,使表面土壤湿润即可;
3)施肥:在红薯茎幼苗种植之前,每个栽植穴底部施入氮肥,并在种植的幼苗根部填盖砂石10-20cm;于竖年施肥1-2次;
4)灌溉:红薯茎幼苗每10-12天浇水一次,每次浇足。
步骤1)中选用的山地为向阴面的山地。
红薯茎幼苗种植过程要每月对栽植进行松土除草处理。
施肥步骤中基肥的原料配比为复合肥:磷肥=3:1。
红薯茎幼苗为普通红薯茎顶部的1/3部位。
实施例3:
本实施例提供一种种植红薯的方法,包括如下步骤:
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