[发明专利]PSVA像素结构有效
| 申请号： | 201710488487.6 | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN107085330B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 邓竹明 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;刘巍 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种PSVA像素结构。该PSVA像素结构包括：上基板和与上基板相对设置的下基板，该上基板上设有公共电极，该下基板上设有钝化层、设置于该钝化层上的像素电极以及设置于该像素电极下方的金属层；该钝化层通过图形化形成有凸起部、侧壁以及沟槽底部，该像素电极仅覆盖于钝化层的凸起部以及沟槽底部。本发明的PSVA像素结构中，钝化层的沟槽侧壁无像素电极，去除横向电场，提高液晶效率。 | ||
| 搜索关键词： | psva 像素 结构 | ||
【主权项】：
一种PSVA像素结构，其特征在于，包括：上基板和与上基板相对设置的下基板，该上基板上设有公共电极，该下基板上设有钝化层、设置于该钝化层上的像素电极以及设置于该像素电极下方的金属层；该钝化层通过图形化形成有凸起部、侧壁以及沟槽底部，该像素电极仅覆盖于钝化层的凸起部以及沟槽底部。
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