[发明专利]一种合金钢表面直流磁控溅射技术制备W‑N硬质膜的方法在审

专利信息
申请号: 201710379033.5 申请日: 2017-05-25
公开(公告)号: CN107058963A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 匡同春;黎毓灵;邓阳;雷淑梅;王毅;陈灵;周克崧;曾德长 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 何淑珍
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种合金钢表面直流磁控溅射技术制备W‑N硬质膜的方法。该方法先将基体研磨、抛光、超声清洗,利用电弧增强辉光放电技术对其表面进行离子清洗与刻蚀,而后采用直流磁控溅射技术(DCMS),在一定基体负偏压、沉积温度、靶功率密度(3~20.75W/cm2)条件下,在合金钢表面沉积数微米厚的W‑N硬质膜。本发明利用电弧增强辉光放电技术清洁基体表面,细化基体表面晶粒,大幅度提高膜基结合力;其次在合金钢上采用直流磁控溅射技术制备摩擦性能优异、硬度高、表面平整、化学稳定性良好的W‑N硬质膜,有效提高合金钢工件的综合性能和使用寿命;该涂层制备可控,工艺简单,易于实施。
搜索关键词: 一种 合金钢 表面 直流 磁控溅射 技术 制备 质膜 方法
【主权项】:
一种合金钢表面直流磁控溅射技术制备W‑N硬质膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:1)基体表面预处理:将合金钢基体研磨抛光、超声清洗、吹干后装夹在可三维旋转的行星架上,再送入腔室中;2)基体表面离子清洗与刻蚀:采用电弧增强辉光放电技术对基体表面进行离子清洗与刻蚀;3)直流磁控溅射镀膜处理:向所述腔室内连续通入高纯氮气和高纯氩气,保持炉内气压和温度恒定,基体加负偏压,进行直流磁控溅射镀膜处理;4)冷却处理:步骤3)完成后开启炉体循环冷却水系统冷却,基体在真空状态下冷却后取出。
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