[发明专利]用于奥氏体晶粒度渗碳法试验的热处理装置及其使用方法有效
| 申请号： | 201710364681.3 | 申请日： | 2017-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN106967946A | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | 顾佳磊;华建国;陆连萍;纵海;蒲洲 | 申请（专利权）人： | 上海电气核电设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C8/66 | 分类号： | C23C8/66;G01N1/28 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙)31249 | 代理人： | 朱成之 |
| 地址： | 201306 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于奥氏体晶粒度渗碳法试验的热处理装置，及其使用方法，包含：S1、将渗碳催化剂铺设在罐体底部；将活性炭铺设在渗碳催化剂上方，位于透气隔板下方；将多个试样样品不接触的摆放在透气隔板上；将密封盖覆盖在罐体顶端进行密封；S2、将热处理装置放入箱式电阻炉内；在高温状态时，渗碳催化剂分解出的CO2与活性炭发生反应，合成CO并通过透气隔板在试样样品周围形成稳定的碳势气氛，模拟气氛渗碳的方式，形成渗碳层，对试样样品完成奥氏体晶粒度的渗碳法试验。本发明能在常规的箱式电阻炉中实现奥氏体晶粒度渗碳法的试验，可降低试验成本，提高试验效率；且渗碳热处理质量良好，渗碳层均匀，满足渗碳法的奥氏体晶粒度的检验要求。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 奥氏体 晶粒 渗碳 试验 热处理 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种用于奥氏体晶粒度渗碳法试验的热处理装置，可在试样样品（5）的表面形成渗碳层，其特征在于，包含：罐体（1）；固体渗碳剂，设置在罐体（1）的内部；透气隔板（4），固定设置在罐体（1）的内侧壁上，且位于固体渗碳剂的上方，用于摆放多个彼此不接触的试样样品（5）；密封盖（6），覆盖设置在罐体（1）的顶端，对罐体（1）进行密封；其中，所述的固体渗碳剂包含：渗碳催化剂（2），铺设在罐体（1）的底部；活性炭（3），铺设在渗碳催化剂（2）的上方，且位于透气隔板（4）的下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海电气核电设备有限公司，未经上海电气核电设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710364681.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
