[发明专利]照明装置的倒装结构及其制作方法有效
申请号: | 201710318571.3 | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN107134470B | 公开(公告)日: | 2019-03-05 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 深圳市尚来特科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L33/38 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 石佩 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种照明装置的倒装结构及其制作方法。照明装置的倒装结构包括层叠设置的衬底、缓冲层、N型氮化物半导体层、有源层及P型氮化物半导体层,透明导电层设于P型氮化物半导体层上,利用黄光蚀刻制程蚀刻透明导电层至有源层,暴露N型氮化物半导体层,得到凸形台面。P型接触金属设于透明导电层上,N型接触金属设于暴露出的N型氮化物半导体层上。沉积并蚀刻第一绝缘层以露出P/N型接触金属的一部分。倒装P型电极设于露出的P型接触金属上,倒装N型电极设于露出的N型接触金属上。再沉积并蚀刻第二绝缘层以露出倒装P/N型电极的一部分。在制作凸形台面时,利用圆形孔洞与长条形孔洞的结合,降低蚀刻精度,提高良率。 | ||
搜索关键词: | 照明 装置 倒装 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种照明装置的倒装结构,其特征在于,包括:外延组件,包括层叠设置的衬底、缓冲层、N型氮化物半导体层、有源层及P型氮化物半导体层,所述衬底远离所述缓冲层的一侧为所述外延组件的第一侧,所述P型氮化物半导体层远离所述有源层的一侧为所述外延组件的第二侧,所述第二侧上设有经蚀刻而成的凹槽,所述凹槽由所述P型氮化物半导体层延伸至所述N型氮化物半导体层,所述凹槽的数目为多个,多个所述凹槽将所述第二侧划分为多个第一面,所述凹槽的侧壁为第二面,所述凹槽的底壁为第三面,所述第一面、所述第二面与所述第三面连接形成凸形台面,部分所述凹槽在所述第一侧上的投影为圆形或圆环,部分所述凹槽在所述第一侧上的投影为长条形;透明导电层,设于所述第一面上;P型接触金属,设于所述透明导电层上;N型接触金属,设于所述第三面上;第一绝缘层,设于所述凸形台面、所述透明导电层、所述P型接触金属及所述N型接触金属上,所述第一绝缘层上设有经蚀刻而成的第一沟槽,所述第一沟槽用于裸露所述P型接触金属的一部分及所述N型接触金属的一部分;倒装P型电极,设于所述第一绝缘层以及正对于所述第一沟槽的所述P型接触金属上;倒装N型电极,设于所述第一绝缘层以及正对于所述第一沟槽的所述N型接触金属上,且所述倒装N型电极与所述倒装P型电极间隔;以及第二绝缘层,设于所述第一绝缘层、所述倒装P型电极以及所述倒装N型电极上,所述第二绝缘层上设有经蚀刻而成的第二沟槽,所述第二沟槽用于裸露所述倒装P型电极的一部分及所述倒装N型电极的一部分,所述倒装P型电极在所述第三面上的投影与所述N型接触金属在所述第三面上的投影间隔;所述倒装N型电极在所述第三面上的投影与所述P型接触金属在所述第三面上的投影间隔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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