[发明专利]薄膜取向结晶生长的X射线衍射原位表征方法有效

专利信息
申请号: 201710301167.5 申请日: 2017-05-02
公开(公告)号: CN107085003B 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 王向华;顾勋 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: G01N23/207 分类号: G01N23/207
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种薄膜取向结晶生长的X射线衍射原位表征方法,首先采用对称反射扫描方式测量薄膜的面外衍射峰位置,确认薄膜的面外取向特征;然后基于初始原胞参数,在预测方位附近,采用非对称反射扫描方式获取一组晶面与衬底形成倾斜夹角的晶面组的衍射峰位置;基于初始原胞参数,计算测量所得衍射峰位置与预测值之间的差距δ,通过修正晶格参数和循环迭代计算不断减小δ直到足够小,从而获得更准确的晶格参数信息。本发明采用计算机辅助的计算方式,可以在几秒钟的时间内获得足够高的分析精度,其输出数据可以直接作为下一个测量周期的输入值,因此可以形成一个高速的动态测量分析系统。
搜索关键词: 薄膜 取向 结晶 生长 射线 衍射 原位 表征 方法
【主权项】:
一种薄膜取向结晶生长的X射线衍射原位表征方法,其特征在于包括以下步骤:(1)首先采用对称反射扫描方式测量薄膜的面外衍射峰位置,确认薄膜的面外取向特征,对称反射扫描方式即2θ/θ扫描方式;(2)然后基于初始原胞参数,在预测方位附近,采用非对称反射扫描方式获取一组晶面与衬底形成倾斜夹角的晶面组的衍射峰位置,非对称反射扫描方式即2θ扫描方式;(3)基于初始原胞参数,计算测量所得衍射峰位置与预测值之间的差距δ,通过修正晶格参数和循环迭代计算不断减小δ直到足够小,从而获得更准确的晶格参数信息。
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