[发明专利]共本体化场效晶体管有效

专利信息
申请号: 201710285581.1 申请日: 2017-04-27
公开(公告)号: CN107359167B 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 裴成文;王平川;佳·D·丰 申请(专利权)人: 格罗方德半导体公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/78;H01L21/84
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 英属开曼群*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及共本体化场效晶体管,其揭示用于共本体化场效晶体管的结构,以及用于形成此类结构的方法。此结构包括通过半导体衬底中沟槽隔离区所界定的半导体材料本体。该本体包括多个第一区段、多个第二区段及一第三区段,该多个第二区段将该多个第一区段与该第三区段耦合。该第三区段包括当作共本体接触部用于至少该多个第一区段的接触区。该多个第一区段及该第三区段具有第一高度,而该多个第二区段具有比该第一高度更小的第二高度。
搜索关键词: 本体 化场效 晶体管
【主权项】:
一种结构,包含:通过半导体衬底中沟槽隔离区所界定的半导体材料本体,该本体包括多个第一区段、多个第二区段及一第三区段,该多个第二区段将该多个第一区段与该第三区段耦合,并且该第三区段包括当作共本体接触部用于至少该多个第一区段的接触区,其中该多个第一区段及该第三区段具有第一高度,而该多个第二区段具有比该第一高度更小的第二高度。
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