[发明专利]气体供应线组件在审
| 申请号： | 201710277189.2 | 申请日： | 2017-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN107447203A | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 大平·姚;海曼·W·H·拉姆;江·吕;迪-业·吴;参·许;马伯方;梅·常 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 徐金国,赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文公开了一种气体供应线组件和使用所述气体供应线组件的处理设备。在一些实施方式中，气体供应线组件包括电介质主体；延伸穿过所述电介质主体的至少一个通道；和设置在所述至少一个通道中的电介质管，其中所述通道的内直径大于所述电介质管的外直径使得在所述电介质管的外壁与所述通道的内壁之间形成间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 供应 组件 | ||
【主权项】：
一种气体供应线组件，包含：电介质主体；至少一个通道，所述通道延伸穿过所述电介质主体；以及电介质管，所述电介质管设置在所述至少一个通道中，其中所述通道的内直径大于所述电介质管的外直径使得在所述电介质管的外壁和所述通道的内壁之间形成间隙。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
