[发明专利]包括非圆形形状的沟道图案的非易失性半导体器件有效

专利信息
申请号: 201710228177.0 申请日: 2017-04-10
公开(公告)号: CN107331667B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 孙龙勋;崔汉枚;黄棋铉 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11565 分类号: H01L27/11565;H01L27/11573;H01L27/11582;H01L27/1157
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 翟然
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种非易失性存储结构包括:水平地延伸的基板;从基板竖直地延伸的填充绝缘图案;多个有源沟道图案,绕填充绝缘图案的周边以Z字形图案从基板竖直地延伸,每个有源沟道图案具有相应的非圆形形状的水平截面;以及多条栅线的竖直堆叠,每个竖直堆叠绕填充绝缘图案和多个有源沟道图案水平地延伸。
搜索关键词: 包括 圆形 形状 沟道 图案 非易失性 半导体器件
【主权项】:
一种非易失性存储结构,包括:水平地延伸的基板;从所述基板竖直地延伸的填充绝缘图案;多个有源沟道图案,绕所述填充绝缘图案的周边以Z字形图案从所述基板竖直地延伸,所述有源沟道图案的每个具有相应的非圆形形状的水平截面;以及多条栅线的竖直堆叠,每个竖直堆叠绕所述填充绝缘图案和所述多个有源沟道图案水平地延伸。
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