[发明专利]照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法有效

专利信息
申请号: 201710207996.7 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN107272347B 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 宫春隆文;筱田健一郎;松本隆宏;佐藤一洋 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/00
代理公司: 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 代理人: 迟军
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法。该照射装置执行倾斜照射并且包括:第一光学元件,其由多个光学部件的阵列形成,各个光学部件被构造为产生点光源;以及第二光学元件,其被构造为接收来自所述第一光学元件的光并形成照射区域,所述第二光学元件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学元件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力,其中,所述第一光学元件和所述第二光学元件中的至少一个具有围绕光学元件的光轴的旋转角度,以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。
搜索关键词: 照射 装置 光学 压印 投影 物品 制造 方法
【主权项】:
一种执行倾斜照射的照射装置,所述照射装置包括:第一光学元件,其由多个光学部件的阵列形成,各个光学部件被构造为产生点光源;以及第二光学元件,其被构造为接收来自所述第一光学元件的光并形成照射区域,所述第二光学元件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学元件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力,其中,所述第一光学元件和所述第二光学元件中的至少一个具有围绕光学元件的光轴的旋转角度,以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。
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