[发明专利]一种在原子力显微镜探针表面可控区域生成金属镀层的方法有效
申请号: | 201710179793.1 | 申请日: | 2017-03-23 |
公开(公告)号: | CN107043929B | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 王栋;赵智豪;万立骏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31;C23C18/18 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 刘元霞;牛艳玲 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种在原子力显微镜(AFM)探针表面可控区域生成金属镀层的方法,所述方法是利用化学还原处理的方法在AFM探针针尖表面上进行金属沉积,所述方法制备得到的金属膜层,具有成本低,膜层致密,重现性高和对环境友好等特点。所述方法是通过准确控制AFM针尖扎入含氟化氢的薄膜的深度,在探针针尖表面得到不同大小的活化区域;再将其浸入含有金属离子的盐溶液内进行化学还原反应,通过准确控制沉积时间以及改变金属离子浓度,可以获得不同金属和不同厚度的镀层。因此,通过控制实验中的不同条件,采用化学镀的方法对商品化的AFM针尖进行金属的沉积,可以获得不同性质的光滑TERS针尖。 | ||
搜索关键词: | 一种 原子 显微镜 探针 表面 可控 区域 生成 金属 镀层 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在原子力显微镜(AFM)探针表面可控区域还原生成金属镀层的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:1)含氟化氢的高分子聚合物薄膜的制备,其中,所述含氟化氢的高分子聚合物薄膜是以高分子聚合物为主体基底,并将氟化氢以离子形式分散其中;2)采用步骤1)制备的含氟化氢的高分子聚合物薄膜对AFM探针针尖表面可控区域进行活化处理,去除其表面氧化层,同时使其表面活化生成Si‑H键;3)对步骤2)制备得到的去除表面氧化层并经表面活化后的AFM探针针尖表面可控区域进行化学还原处理,即制备得到金属镀层;其中,在步骤1)中,所述含氟化氢的高分子聚合物薄膜的制备包括如下步骤:(1a)基片表面处理:取基片,分别用丙酮、乙醇、超纯水超声洗涤数次,每次洗涤至少5分钟;随后将基片置于浓硫酸与30%过氧化氢混合溶液中,于80~100℃温度下浸泡20~40分钟;最后用超纯水洗涤干净后,N2吹干即可;(1b)含氟化氢的高分子聚合物薄膜的制备:将5~20mg/mL的高分子聚合物的溶液滴加在步骤(1a)获得的经表面处理后的基片上,经过50~70℃热处理,得到高分子聚合物薄膜;随后在其表面上逐滴滴加HF溶液,并在空气中静置,待其晾干后,得到覆盖在基片表面的含氟化氢的高分子聚合物薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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