[发明专利]稠合杂芳族化合物及其中间体的合成方法、稠合杂芳族化合物及其中间体、和电子器件有效

专利信息
申请号: 201710156533.2 申请日: 2017-03-16
公开(公告)号: CN107266469B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 宫碕荣吾;朴正一;姜铉范;李恩庆 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: C07D495/22 分类号: C07D495/22;C07D495/04;C07D517/22;C07D517/04;H01L51/05;H01L51/50;H01L51/30;H01L51/54
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 金拟粲
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开稠合杂芳族化合物及其中间体的合成方法、稠合杂芳族化合物及其中间体、和电子器件。合成稠合杂芳族化合物的方法包括:由通过化学式1表示的第一化合物和通过化学式2表示的第二化合物获得第一中间体,由所述第一中间体获得包括具有硫属元素的环的第二中间体,和通过所述第二中间体的环化反应获得稠合杂芳族化合物。在化学式1和2中,Ar1、Ar2、X1、R1、R2、L1和Y1与说明书中描述的相同。
搜索关键词: 稠合杂芳族 化合物 及其 中间体 合成 方法 电子器件
【主权项】:
合成稠合杂芳族化合物的方法,所述方法包括:由通过化学式1表示的第一化合物和通过化学式2表示的第二化合物获得第一中间体;由所述第一中间体获得包括具有硫属元素的环的第二中间体;和通过所述第二中间体的环化反应获得稠合杂芳族化合物:其中,在化学式1和2中,Ar1和Ar2各自独立地为如下之一:取代或未取代的芳族环、取代或未取代的杂芳族环、和来自其的两个或更多个环的稠环,X1为硫属元素,R1和R2各自独立地为如下之一:氢、取代或未取代的C1‑C20烷基、C1‑C20氟烷基、取代或未取代的C6‑C20芳基、卤素、以及其组合,L1为乙烯基和乙炔基之一,和Y1为卤素。
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