[发明专利]用于焦平面成像器件绝对光谱响应的通用快速测量方法

摘要

本发明涉及一种用于焦平面成像器件绝对光谱响应的通用快速测量方法，该方法通过整幅图像输出来计算相对光谱响应，结合校准过的参考探测器，实现焦平面成像器件绝对光谱响应的测量；并以光阑对照射到参考探测器及焦平面成像器件上的光斑进行约束，使测量结果不受光斑形状、对称性、均匀性的影响。该方法相比于现有测量方法，解决了单色光均匀化后光强小、测量适用性差等问题，避免了焦平面局部缺陷对测量结果的影响，并且对测量设备的要求较低。作为一种焦平面绝对光谱响应测量的通用方法，可大大降低测量成本、显著缩短测量时间，其推广应用具有重要的经济效益与应用价值。

主权项

一种用于焦平面成像器件绝对光谱响应的通用快速测量方法，其特征在于按下列步骤进行：a、采用光阑限制光束，保证焦平面成像器件的感光区域完全覆盖光斑，通过光谱扫描测试，获得焦平面成像器件的相对光谱响应：按照光谱分辨率的要求，在待测的光谱范围λmin—λmax内取n个波长点，标记为λ1—λn，含参考探测器校准波长λref，以单色光斑照射焦平面成像器件，测试获得每个波长点的相对光谱响应Rr_λ1至Rr_λn。；b、以波长为λref的单色光照射参考探测器，测试获得参考探测器的输出电流Iref；c、计算焦平面成像器件的绝对光谱响应：通过Iref和参考探测器在波长λref点的校准值Qλref，单位A/W，计算校准波长单色光斑的功率Lref，根据Lref和焦平面成像器件λref点的相对光谱响应Rr_λref，计算得出焦平面成像器件λref点的绝对光谱响应Rλref，然后以公式Rλm＝Rr_λm/Rr_λref×Rλref，其中m为1—n中的任意整数，计算获得其它波长点的绝对光谱响应。