[发明专利]一种激光溅射团簇离子源有效

专利信息
申请号: 201710114780.6 申请日: 2017-02-28
公开(公告)号: CN106803476B 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 张寒辉;邱秉林;汪蕾;周晓国;刘世林 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H01J49/14 分类号: H01J49/14
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 王宝筠
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本申请公开了一种激光溅射团簇离子源,包括离子源主体、脉冲阀、样品靶固定杆、进光螺钉、样品靶、喷嘴、密封片,还包括密封件,所述密封件位于样品靶固定杆和离子源主体之间,用于密封所述样品靶固定杆和所述离子源主体的样品靶孔之间的间隙,使得激光溅射团簇离子源的密封性更好,从而避免激光溅射产生的等离子体泄露,以及等离子体与载气的有效碰撞降低,进而提高团簇离子的产生效率,增强离子信号。
搜索关键词: 一种 激光 溅射 离子源
【主权项】:
一种激光溅射团簇离子源,包括:离子源主体(1)、脉冲阀(2)、样品靶固定杆(3)、进光螺钉(4)、样品靶(5)和喷嘴(7),其特征在于,还包括:密封片(8)和密封件(9);所述离子源主体(1)相对的两个表面上分别开设有样品靶孔(11)和进光孔(12),所述离子源主体(1)上还开设有与所述进光孔(12)垂直的团簇离子生长通道(13)和载气进入通道;所述脉冲阀(2)内部开设有贯穿的空心通道,所述空心通道、所述载气进入通道、所述团簇离子生长通道(13)、所述喷嘴(7)依次相连形成气路;所述样品靶固定杆(3)位于所述离子源主体(1)的样品靶孔(11)中,所述样品靶(5)设置在所述样品靶固定杆(3)和所述离子源主体(1)之间;所述进光螺钉(4)将所述密封片(8)固定在所述进光孔(12)中,所述密封片(8)用于密封所述进光孔(12);其中,所述密封件(9)用于密封所述样品靶固定杆(3)和所述离子源主体(1)的样品靶孔(11)之间的间隙。
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