[发明专利]用于蚀刻均匀性控制的可变深度边缘环有效

专利信息
申请号: 201710076027.2 申请日: 2017-02-13
公开(公告)号: CN107086168B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 艾夫林·安格洛夫;克里斯蒂安·赛拉迪;迪恩·拉森;布莱恩·西弗森 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠;邱晓敏
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种用于蚀刻均匀性控制的可变深度边缘环。衬底支撑件包括布置成支撑衬底的内部部分、围绕内部部分的边缘环以及计算衬底支撑件的期望凹坑深度的控制器。凹坑深度对应于边缘环的上表面和衬底的上表面之间的距离。基于期望凹坑深度,控制器选择性地控制致动器以升高和降低边缘环和内部部分中的至少一个,以调节边缘环的上表面和衬底的上表面之间的距离。
搜索关键词: 用于 蚀刻 均匀 控制 可变 深度 边缘
【主权项】:
一种衬底支撑件,包括:内部部分,其布置成支撑衬底;边缘环,其围绕所述内部部分;和控制器,其计算所述衬底支撑件的期望凹坑深度,其中凹坑深度对应于所述边缘环的上表面与所述衬底的上表面之间的距离,并且基于所述期望凹坑深度,选择性地控制致动器以升高和降低所述边缘环和所述内部部分中的至少一个,以调节所述边缘环的上表面和所述衬底的上表面之间的距离。
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