[发明专利]用于金属在表面上的局部沉积的方法和系统有效
申请号: | 201710060939.0 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN107043920B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 肖志刚 | 申请(专利权)人: | 伊利诺斯工具制品有限公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/48;C23C16/14;C30B29/02;C30B25/00 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 脱颖 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及用于金属层在表面上的局部沉积的方法和系统。所述方法包含:将至少两种气态反应物引导到由激光器局部加热的基体表面。所述表面被加热到这样的温度:在该温度下,所述气态反应物进行反应,所述反应导致基体表面上的金属晶体生长。所述反应维持期望的一段时间并且在期望的条件下维持,以产生金属层在所述基体的加热区上的局部沉积。在一些实施例中,气体出口和激光器可以以受控方式移动,使得金属层可以以期望的图案沉积在所述基体表面上。 | ||
搜索关键词: | 用于 金属 表面上 局部 沉积 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种用于金属层的局部沉积的方法,所述方法包括:(a)将第一气态反应物,所述第一气态反应物包括含金属的前体,和第二气态反应物引导到基体的表面,其中所述第一和第二气态反应物通过一个或多个气体出口被引导到所述基体的所述表面;以及(b)将激光器指向所述基体表面上邻近所述一个或多个气体出口的位置,从而将所述表面的区加热到所述第一和第二气态反应物反应的温度,以使得金属层沉积在所述基体表面的加热区上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的