[发明专利]辊到辊两面曝光装置

摘要

一种辊到辊两面曝光装置，提供在辊到辊方式且进行两面曝光的曝光装置中，能够进行掩膜的清洗的实用的构成。通过搬运系统(1)将辊状的片状基板(S)拉出并在曝光区域中通过地搬运，通过设置在曝光区域的两侧的一对光源(2)、光学系统(3)以及掩膜(41、42)，按照掩膜(41、42)的图案照射光对片状基板(S)进行曝光。在曝光的间隙，升降机构(51、52)是各掩膜(41、42)升降，成为各掩膜(41、42)与表面具有粘贴层的一对清洗辊(61、62)接触的状态，各清洗辊(61、62)在各掩膜(41、42)上转动并且通过辊移动机构(63)一体地移动，由此对各掩膜(41、42)进行清洗。

主权项

一种辊到辊两面曝光装置，将辊状的片状基板拉出并向该片状基板的两面照射规定图案的光而进行曝光，其特征在于，具备：搬运系统，将辊状的片状基板拉出并在曝光区域中通过地进行搬运；一对掩膜，隔着曝光区域配置；以及掩膜清洗机构，对一对掩膜进行清洗，掩膜清洗机构具备：一对清洗辊，表面具有粘贴层；以及辊移动机构，使各清洗辊在各掩膜上边转动边移动，由此从各掩膜除去异物，辊移动机构是在之间存在片状基板的状态下使各清洗辊从各掩膜的一侧向另一侧同时期地移动的机构。