[发明专利]电极图案的形成方法及电子元器件的制造方法在审
| 申请号： | 201710044230.1 | 申请日： | 2017-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN106981418A | 公开（公告）日： | 2017-07-25 |
| 发明（设计）人： | 岩越邦男;后藤诚治 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | H01L21/28 | 分类号： | H01L21/28 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 俞丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种电极图案的形成方法，利用喷墨工艺能够在同一面内的多个区域分别形成具有希望的厚度的电极图案。该方法将包含彼此连接的第一导体部及第二导体部的电极图案通过喷墨工艺形成在工件上，其特征在于，在所述工件具有的同一面内，定义与所述第一导体部的至少一部分对应的第一区域、以及与所述第二导体部的至少一部分对应的第二区域，为了形成所述第一导体部以及所述第二导体部，向所述第一区域以及所述第二区域喷出导电性墨滴，所述第一区域以及所述第二区域中的导电性墨滴的分辨率彼此不同。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 图案 形成 方法 电子元器件 制造 | ||
【主权项】：
一种电极图案的形成方法，利用喷墨工艺在工件上形成包含彼此连接的第一导体部及第二导体部的电极图案，其特征在于，在所述工件具有的同一面内，定义与所述第一导体部的至少一部分对应的第一区域、以及与所述第二导体部的至少一部分对应的第二区域，为了形成所述第一导体部以及所述第二导体部，向所述第一区域以及所述第二区域喷出导电性墨滴，所述第一区域以及所述第二区域中的导电性墨滴的分辨率互不相同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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