[发明专利]一种锆合金表面石墨烯钝化处理防腐涂层的方法有效
申请号: | 201710026560.8 | 申请日: | 2017-01-14 |
公开(公告)号: | CN106835067B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 章海霞;侯莹;郭俊杰;魏丽乔;王永祯;李中奎;周军;石明华;马琼;黄增鑫 | 申请(专利权)人: | 太原理工大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/02;C23C16/32;C23C16/455;C23C16/517 |
代理公司: | 太原倍智知识产权代理事务所(普通合伙) 14111 | 代理人: | 戎文华 |
地址: | 030024 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种锆合金表面石墨烯钝化处理防腐涂层的方法是采用微波等离子体化学气相沉积法在锆合金表面原位生长石墨烯保护层,然后将锆合金/石墨烯样品置于原子层沉积设备的反应腔,进行碳化硅的沉积。由于原子层钝化颗粒碳化硅对悬键特别敏感,会优先沉积在石墨烯的缺陷位置,在石墨烯的孔洞、晶界处形成分散的团簇,而不是连续的薄膜,将石墨烯的缺陷进行钝化,从而实现石墨烯对锆合金的完全保护。本方法简单成本低,获得的薄膜保护性能优良,在核用锆合金的防腐领域具有潜在的应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 合金 表面 石墨 钝化 处理 防腐 涂层 方法 | ||
【主权项】:
1.一种锆合金表面石墨烯钝化处理防腐涂层的方法,所述方法是按下列步骤进行的:(1)将锆合金先在丙酮中清洗,在硝酸和氢氟酸混合液中浸泡后,再在无水乙醇中超声振荡2次,每次30min,去除表面杂质和油污,然后在氮气环境下烘干;(2)将锆合金置于微波等离子体化学气相沉积设备的反应腔内,将腔体抽真空至1Pa以下,通入50sccm~200sccm的氢气,调节微波功率至1000W~6000W,腔体气压保持在2kPa~9kPa,由氢等离子体轰击锆合金10min~180min,将基片加热并进一步清除表面的杂质;(3)通入甲烷并调节气体比例开始生长石墨烯薄膜,沉积时间是10~120s,沉积温度是300~600℃,气体流量甲烷/氢气是1/60、1/80、1/100、1/200或是1/300,腔体气压是2.7~7.4kPa ,微波功率是1300~6000W;(4)沉积完成后,关闭甲烷气体和微波电源,继续通入氢气使腔体以2~3℃/s速率冷却至100℃以下,取出样品;(5)将获得的样品置于原子层沉积设备的反应腔,进行碳化硅钝化颗粒的沉积,将金属表面石墨烯的缺陷进行钝化处理;所述碳化硅钝化颗粒的沉积是按下列步骤进行的:向原子层沉积设备反应腔中通入氩气或氮气;向原子层沉积设备反应腔中通入含碳物质,使其与样品表面发生碳化学吸附;向原子层沉积设备反应腔中通入含硅物质,含硅物质中的硅原子与样品表面的碳原子形成碳硅键,待反应完全后,样品表面石墨烯缺陷处即形成碳化硅颗粒;所述向原子层沉积设备反应腔中通入含碳物质是四氯化碳,四氯化碳的流速是10sccm~400sccm,进气时间是0.5s~1s;所述向原子层沉积设备反应腔中通入含硅物质是硅烷,硅烷的流速是10sccm~100sccm,硅烷的进气时间是0.5s~1s。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太原理工大学,未经太原理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710026560.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的