[发明专利]磁场调整方法有效

专利信息
申请号: 201680009752.1 申请日: 2016-02-19
公开(公告)号: CN107205690B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 阿部充志;榊原健二;藤川拓也;花田光 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 曾贤伟;范胜杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 根据磁场测量值,假定虚拟配置并包围测量位置的电流面,通过电流电位再现能再现测量磁场的电流分布(或者磁矩分布)。使用这些,在现实中使用的离散配置匀场托盘和理想虚拟连续配置的匀场托盘进行采用截断奇异值分解法的匀场计算,以进行均匀度的匀场接近理想匀场的匀场条件执行匀场。
搜索关键词: 磁场 调整 方法
【主权项】:
一种磁场调整方法,在具有磁铁装置和匀场托盘的磁铁系统中,通过在所述匀场托盘中配置匀场磁性体来修正由所述磁铁装置生成的磁场分布,其中,所述磁铁装置在预定空间内形成均匀的磁场强度分布,所述匀场托盘对所述磁场强度分布进行修正,其特征在于,该磁场调整方法具有以下步骤:第一步骤,测定预先确定的闭合曲面上的磁场强度分布;第二步骤,根据在所述第一步骤中获取到的磁场强度分布,获取与目标磁场强度分布的差分即误差磁场分布;第三步骤,在量上连续的数值条件下,计算形成使所述误差磁场分布减小的修正磁场分布的匀场磁性体的配置条件;第四步骤,在空间以及量上离散的数值条件下,计算形成使所述误差磁场分布减小的修正磁场分布的匀场磁性体的配置条件;第五步骤,将基于在所述第三步骤中获取的配置条件配置的匀场磁性体所形成的修正磁场与所述测定的磁场强度分布相加,来求出第一修正后磁场强度分布;第六步骤,将基于在所述第四步骤中获取的配置条件配置的匀场磁性体所形成的修正磁场与所述测定的磁场强度分布相加,来求出第二修正后磁场强度分布;以及第七步骤,求出所述第二修正后磁场强度分布相对于所述第一修正后磁场强度分布的差分,在所述差分为预先确定的预定阈值以上的情况下,变更所述预定空间或者所述目标磁场强度分布,并从所述第二步骤开始再次计算,在所述差分收敛于预先确定的预定阈值内的情况下,按照在所述第四步骤中获取的配置条件,将所述匀场磁性体配置在所述匀场托盘中。
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