[实用新型]一种新型真空镀膜机有效
申请号: | 201620836902.3 | 申请日: | 2016-08-02 |
公开(公告)号: | CN206157225U | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 蒋国辉 | 申请(专利权)人: | 南京金盛达镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/24 |
代理公司: | 北京久维律师事务所11582 | 代理人: | 邢江峰,梁凤德 |
地址: | 211299 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种新型真空镀膜机,包括抽真空的箱体,所述箱体内的左右两端的上部分别设有基材放卷轴和基材收卷轴,所述基材放卷轴和基材收卷轴之间的下方设有多个冷却辊,所述冷却辊的下方分别设置有一个蒸发源。本实用新型在一套真空镀膜机加入多个蒸发源对运动中的基材进行连续不断的蒸镀沉积,并对每次蒸镀进行冷却,可以使基材在不至于速度过低被熔断的情况下达到有效增加镀层金属厚度的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 真空镀膜 | ||
【主权项】:
一种新型真空镀膜机,包括抽真空的箱体,其特征在于,所述箱体内的左右两端的上部分别设有基材放卷轴和基材收卷轴,所述基材放卷轴和基材收卷轴之间的下方设有多个冷却辊,所述冷却辊的下方分别设置有一个蒸发源。
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