[实用新型]一种洁净室用晶片清洗工作台

摘要

一种洁净室用晶片清洗工作台，涉及空气净化装置领域，尤其是一种洁净室用晶片清洗工作台，该工作台是一个柜体，该柜体分为上中下三个部分，上部为空气循环系统，中部为工作区域，下部是一个支撑台。本实用新型的一种洁净室用晶片清洗工作台，设计科学，使用方便，把清洗窗口、甩干窗口及验片窗口整合在同一操作台上，实现了在及时排出清洗晶片产生的有害气体的同时，减少了晶片再次受到沾污的机会，大大提高了生产效率。

主权项

一种洁净室用晶片清洗工作台，其特征在于该工作台是一个柜体，该柜体分为上中下三个部分，上部为空气循环系统，中部分为工作区域，下部分是一个支撑台；其中：空气循环系统包括高效过滤器（10）、静压箱（3）、风机（2）和抽风管（4），高效过滤器（10）顶端设置静压箱（3），静压箱（3）顶部开口处设置有风机（2），静压箱（3）后侧中央设置抽风管（4）；工作区域分为操作区和流通区，操作区包括矩形横杆（8）、垂直隔板（11）和操作窗口（20），矩形横杆（8）底端安装操作窗口（20），操作窗口（20）通过两块垂直隔板（11）分隔为清洗窗口（13）、甩干窗口（14）及验片窗口（15），清洗窗口（13）中设置有清洗槽（26），清洗槽（26）里设置摆放台面（25），摆放台面（25）底部设置支撑脚（1），甩干窗口（14）和验片窗口（15）中设置载物隔板（22），流通区由前挡板（21）、水平隔板（23）、导流板（17）、斜向导流板（19）、背板（9）和盖板（6）构成，载物隔板（22）和导流板（17）设置通风圆孔（12）。