[实用新型]一种电弧离子源清洗基片装置有效
| 申请号： | 201620592387.9 | 申请日： | 2016-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN205803574U | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 邹杨;孙蕾;杨宜珍;邹松东;孙凌 | 申请（专利权）人： | 洛阳奥尔材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 洛阳市凯旋专利事务所41112 | 代理人： | 陆君 |
| 地址： | 471000 河南省洛阳*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种电弧离子源清洗基片装置，涉及一种清洗基片装置，包括真空室（7）、工件架（8）、电弧离子源组件A（2）和电弧离子源组件B（4），在真空室（7）内设有工件架（8），在真空室（7）内的一侧壁上设有耐高温挡板（1），在真空室（7）的外部设有并排间隔设置的电弧离子源组件A（2）与电弧离子源组件B（4），在电弧离子源组件A（2）与电弧离子源组件B（4）上均设有进气口（3）；本实用新型通过在真空室内设置耐高温挡板，在耐高温挡板的下部设置偏压电源，实现了清洗能量高、工作稳定、使用成本低的有益效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电弧 离子源 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种电弧离子源清洗基片装置，包括真空室（7）、工件架（8）、电弧离子源组件A（2）和电弧离子源组件B（4），其特征是：在真空室（7）内设有工件架（8），在真空室（7）内的一侧壁上设有耐高温挡板（1），在真空室（7）的外部设有并排间隔设置的电弧离子源组件A（2）与电弧离子源组件B（4），在电弧离子源组件A（2）与电弧离子源组件B（4）上均设有进气口（3）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于洛阳奥尔材料科技有限公司，未经洛阳奥尔材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620592387.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：微型挤压丝锥复合涂层及其制备设备
- 下一篇：用于薄膜太阳能电池镀膜的掩膜板
- 同类专利
- 专利分类
