[实用新型]无掩膜阻焊曝光机有效
| 申请号： | 201620208338.0 | 申请日： | 2016-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN205539931U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 平洁 | 申请（专利权）人： | 江苏影速光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人： | 周爱芳 |
| 地址： | 221399 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种无掩膜阻焊曝光机，包括至少一组激光器Ⅰ（11）和激光器Ⅱ（12），以及光束会聚器（2）；所述激光器Ⅰ（11）置于光束会聚器（2）上方，所述激光器Ⅱ（12）置于光束会聚器（2）前方；所述光束会聚器（2）后方依次设有凸透镜Ⅰ（3）、凸透镜Ⅱ（4）、反射镜（5）和可旋转单像素成像单元（6）；所述可旋转单像素成像单元（6）正下方设置基板（7）。本无掩膜阻焊曝光机取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是扫描式无掩膜曝光。本无掩膜阻焊曝光机在节约成本的同时大幅度提高了曝光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩膜阻焊 曝光 | ||
【主权项】：
一种无掩膜阻焊曝光机，其特征在于，包括至少一组激光器Ⅰ（11）和激光器Ⅱ（12），以及光束会聚器（2）；所述激光器Ⅰ（11）置于光束会聚器（2）上方，所述激光器Ⅱ（12）置于光束会聚器（2）前方；所述光束会聚器（2）后方依次设有凸透镜Ⅰ（3）、凸透镜Ⅱ（4）、反射镜（5）和可旋转单像素成像单元（6）；所述可旋转单像素成像单元（6）正下方设置基板（7）。
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