[发明专利]一种基于磁控溅射的NiO电致变色薄膜生产工艺及玻璃在审
| 申请号： | 201611223413.1 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN106676488A | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 张忠义 | 申请（专利权）人： | 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)11390 | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于磁控溅射的NiO电致变色薄膜生产工艺，该工艺基于立式连续真空磁控溅射设备实现，所述工艺包括：在玻璃基板上先利用直流磁控溅射方式沉积ITO纳米膜层，然后在ITO纳米膜层上利用直流磁控溅射方式沉积NiO阳极电致变色薄膜层。本发明具有薄膜与基片附着力强、溅射所获得的薄膜纯度高、致密性和成膜均匀性好、溅射工艺可重复性高等有益效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 磁控溅射 nio 变色 薄膜 生产工艺 玻璃 | ||
【主权项】：
一种基于磁控溅射的NiO电致变色薄膜生产工艺，其特征在于，该工艺基于立式连续真空磁控溅射设备实现，所述工艺包括：在玻璃基板(1)上先利用直流磁控溅射方式沉积ITO纳米膜层(2)，然后在ITO纳米膜层(2)上利用直流磁控溅射方式沉积NiO阳极电致变色薄膜层(3)。
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