[发明专利]基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置在审
| 申请号： | 201611189431.2 | 申请日： | 2016-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN108616726A | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 陈星宏;周詹闵 | 申请（专利权）人： | 光宝电子(广州)有限公司;光宝科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31;H04N13/106;H04N13/275 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马雯雯;臧建明 |
| 地址： | 510663 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置。曝光控制方法包括：根据多个曝光条件对物体进行结构光扫描操作以产生对应的多个影像组；从所述曝光条件中决定最佳曝光条件，其中最佳曝光条件对应的影像组的曝光不合格值小于其他影像组的曝光不合格值，曝光不合格值是藉由每一影像组中的过度曝光像素的个数及信心度过低像素的个数来决定；以及根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。本发明的曝光控制方法及曝光控制装置会从多个曝光条件中决定最佳曝光条件，并根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。 | ||
| 搜索关键词： | 影像组 最佳曝光条件 曝光控制 曝光控制装置 曝光条件 结构光 立体影像 曝光 过度曝光 扫描操作 低像素 像素 | ||
【主权项】：
1.一种基于结构光的曝光控制方法，其特征在于，适用于具有投影机及影像捕获设备的曝光控制装置，该曝光控制方法包括：根据多个曝光条件对一物体进行结构光扫描操作以产生对应的多个影像组；从所述多个曝光条件中决定最佳曝光条件，其中该最佳曝光条件对应的影像组的曝光不合格值小于其他所述多个影像组的该曝光不合格值，该曝光不合格值是藉由每一所述多个影像组中的过度曝光像素的个数及信心度过低像素的个数来决定；以及根据该最佳曝光条件对应的影像组计算该物体的立体影像。
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