[发明专利]基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置

权利要求书

1.一种基于结构光的曝光控制方法，其特征在于，适用于具有投影机及影像捕获设备的曝光控制装置，该曝光控制方法包括：

根据多个曝光条件对一物体进行结构光扫描操作以产生对应的多个影像组；

从所述多个曝光条件中决定最佳曝光条件，其中该最佳曝光条件对应的影像组的曝光不合格值小于其他所述多个影像组的该曝光不合格值，该曝光不合格值是藉由每一所述多个影像组中的过度曝光像素的个数及信心度过低像素的个数来决定；以及

根据该最佳曝光条件对应的影像组计算该物体的立体影像。

2.根据权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，该结构光扫描操作包括：

利用该投影机依序投射具有多个扫描图样的结构光于该物体以扫描该物体；

以及当具有所述多个扫描图样的结构光投射在该物体时，利用该影像捕获设备捕获该物体的多个影像。

3.根据权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，当一像素在每一所述多个影像组中的任一影像中的曝光值大于曝光门槛值时，则判断该像素为该过度曝光像素。

4.根据权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，当一像素在每一所述多个影像组中的信心度小于信心度门槛值时，则判断该像素为该信心度过低像素，其中该信心度为该像素在每一所述多个影像组中的曝光值的变化度。

5.根据权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，所述多个曝光条件为该投影机的亮度、该影像捕获设备的光圈、该投影机及该影像捕获设备的曝光时间或所述多个扫描图样的变化强度。

6.根据权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，所述多个扫描图样包括第一空间频率以及第二空间频率的特定图样。

7.根据权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，每一所述多个扫描图样的结构光具有至少三种不同相位移，而各所述相位移分别对应于所述多个影像的其中之一。

8.一种基于结构光的曝光控制装置，其特征在于，包括：

投影机；

影像捕获设备；以及

处理器，耦接该投影机及该影像捕获设备，

其中该处理器指示该投影机及该影像捕获设备根据多个曝光条件对一物体进行结构光扫描操作以产生对应的多个影像组，

其中该处理器从所述多个曝光条件中决定最佳曝光条件，其中该最佳曝光条件对应的影像组的曝光不合格值小于其他所述多个影像组的该曝光不合格值，该曝光不合格值是藉由每一所述多个影像组中的过度曝光像素的个数及信心度过低像素的个数来决定，

其中该处理器根据该最佳曝光条件对应的影像组计算该物体的立体影像。

9.根据权利要求8所述的曝光控制装置，其特征在于，该处理器指示该投影机依序投射具有多个扫描图样的结构光于该物体以扫描该物体，其中当具有所述多个扫描图样的结构光投射在该物体时，该处理器指示该影像捕获设备捕获该物体的多个影像。

10.根据权利要求9所述的曝光控制装置，其特征在于，当一像素在每一所述多个影像组中的任一影像中的曝光值大于曝光门槛值时，则判断该像素为该过度曝光像素。

11.根据权利要求9所述的曝光控制装置，其特征在于，当一像素在每一所述多个影像组中的信心度小于信心度门槛值时，则判断该像素为该信心度过低像素，其中该信心度为该像素在每一所述多个影像组中的曝光值的变化度。

12.根据权利要求9所述的曝光控制装置，其特征在于，所述多个曝光条件为该投影机的亮度、该影像捕获设备的光圈、该投影机及该影像捕获设备的曝光时间、或者所述多个扫描图样的变化强度。

13.根据权利要求9所述的曝光控制装置，其特征在于，所述多个扫描图样包括第一空间频率以及第二空间频率的特定图样。

14.根据权利要求9所述的曝光控制装置，其特征在于，每一所述多个扫描图样的结构光具有至少三种不同相位移，而各所述相位移分别对应于所述多个影像的其中之一。