[发明专利]基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置

说明书

本发明提供一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置。曝光控制方法包括：根据多个曝光条件对物体进行结构光扫描操作以产生对应的多个影像组；从所述曝光条件中决定最佳曝光条件，其中最佳曝光条件对应的影像组的曝光不合格值小于其他影像组的曝光不合格值，曝光不合格值是藉由每一影像组中的过度曝光像素的个数及信心度过低像素的个数来决定；以及根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。本发明的曝光控制方法及曝光控制装置会从多个曝光条件中决定最佳曝光条件，并根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。

技术领域

本发明涉及一种曝光控制方法及曝光控制装置，且特别涉及一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置。

背景技术

在计算机图学的领域中，针对物体外观轮廓的几何量测技术在现今的应用上，例如工业设计、逆向工程、制造零件检测、数字文物典藏、文物遗迹考古等均有三维取像与数据分析的需求。

以现有基于时间编码的结构光(time-coded structured light)而言，其可提供相当精细的立体扫描结果。此种扫描方式是利用不同相位移以及频率的结构光投射到物体表面，再利用影像捕获设备捕获因物体表面轮廓而造成变形的结构光的多张影像，以藉由影像分析得到物体的完整表面信息。然而，在投射具有结构光的图样到物体表面时可能因为曝光过度造成错误立体信息，或因为曝光不足而造成信心度过低而计算出错误率高的立体信息。

发明内容

本发明提供一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置，用以控制曝光条件以提升立体扫描的影像质量。

本发明的基于结构光的曝光控制方法适用于具有投影机及影像捕获设备的曝光控制装置，上述曝光控制方法包括：根据多个曝光条件对物体进行结构光扫描操作以产生对应的多个影像组；从所述曝光条件中决定最佳曝光条件，其中最佳曝光条件对应的影像组的曝光不合格值小于其他影像组的曝光不合格值，曝光不合格值是藉由每一影像组中的过度曝光像素的个数及信心度过低像素的个数来决定；以及根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。

本发明的基于结构光的曝光控制装置包括投影机、影像捕获设备及处理器。处理器耦接投影机及影像捕获设备。处理器指示投影机及影像捕获设备根据多个曝光条件对物体进行结构光扫描操作以产生对应的多个影像组。处理器从所述曝光条件中决定最佳曝光条件。最佳曝光条件对应的影像组的曝光不合格值小于其他影像组的曝光不合格值。曝光不合格值是藉由每一影像组中的过度曝光像素的个数及信心度过低像素的个数来决定。处理器根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。

基于上述，本发明的曝光控制方法及曝光控制装置会从多个曝光条件中决定最佳曝光条件，并根据最佳曝光条件对应的影像组计算物体的立体影像。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所示附图作详细说明如下。

附图说明

图1是根据本发明一实施例所显示的曝光控制装置的方块图；

图2是根据本发明一实施例所显示的曝光控制装置的示意图；

图3是根据本发明一实施例所显示的曝光控制方法的流程图；

图4是根据本发明一实施例所显示的过度曝光地图的示意图；

图5是根据本发明一实施例所显示的信心度不足地图的示意图；

图6是根据本发明一实施例所显示的相位角与信心度关系的示意图；

图7是根据本发明一实施例所显示的曝光条件与曝光不合格值的关系的示意图。

附图标记说明：

100：曝光控制装置

110：投影机