[发明专利]对食品接触表面去污、清洁和消毒的方法在审
申请号: | 201611184132.X | 申请日: | 2016-12-20 |
公开(公告)号: | CN107413716A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 巴威石·坎蒂拉尔·帕特尔;赫曼特·希瓦拉姆·戈德博尔 | 申请(专利权)人: | 密封空气印度PVT有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;C23G1/02;C11D7/60;C11D7/38;C11D7/34;C11D7/18;C11D7/08;C11D7/10;A61L2/18;A61L101/02;A61L101/22;A61L101/32 |
代理公司: | 北京京万通知识产权代理有限公司11440 | 代理人: | 魏振华,万学堂 |
地址: | 印度马哈*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及原位清洁过程及其清洁组合物。更具体地讲,本发明涉及用于移除粘附到食品加工设备和制备后生产线的所述内部金属表面或连接处的烧灼食物类污垢的清洁过程。所述CIP方法包括使所述污垢与氧化组合物接触,以氧化所述污垢并使其在高温下溶解,从而有助于使所述污垢从金属表面移除。另外所述方法包括使去污和消毒溶液通过。 | ||
搜索关键词: | 食品 接触 表面 去污 清洁 消毒 方法 | ||
【主权项】:
一种用于清洁食品饮料加工设备的原位清洁过程,所述过程包括:(a)使所述污面与包含至少一种氧化剂和至少一种调节剂的清洁组合物接触,其中所述清洁组合物溶液的温度升高至20℃以上,以及(b)引入水以冲洗所述设备,(c)引入所述去污溶液以供步骤(b)的冲洗,所述去污溶液包含所述水中的至少一种还原剂,其中,在与所述去污组合物接触时,所述还原剂与步骤(a)所述的痕量氧化剂反应,并且对所述基底表面消毒;其中所述过程为一体化的并且从原位清洁系统连续运行至所述封闭加工设备中。
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