[发明专利]对食品接触表面去污、清洁和消毒的方法

权利要求书

1.一种用于清洁食品饮料加工设备的原位清洁过程，所述过程包括：

(a)使所述污面与包含至少一种氧化剂和至少一种调节剂的清洁组合物接触，其中所述清洁组合物溶液的温度升高至20℃以上，以及

(b)引入水以冲洗所述设备，

(c)引入所述去污溶液以供步骤(b)的冲洗，所述去污溶液包含所述水中的至少一种还原剂，其中，在与所述去污组合物接触时，所述还原剂与步骤(a)所述的痕量氧化剂反应，并且对所述基底表面消毒；

其中所述过程为一体化的并且从原位清洁系统连续运行至所述封闭加工设备中。

2.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中清洁组合物中的所述氧化剂浓度在0.01至5重量％的范围内。

3.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中所述氧化剂为高锰酸钾。

4.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中清洁组合物中的所述调节剂浓度在0.01至10重量％的范围内。

5.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中所述调节剂选自硝酸、磷酸、甲磺酸、盐酸或它们的混合物。

6.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中去污组合物中的所述还原剂浓度在0.01至5重量％的范围内。

7.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中所述还原剂选自过氧化氢、过乙酸或它们的混合物。

8.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中所述温度高于环境温度，更具体地讲为约50℃至95℃。

9.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中所述过程运行从30分钟至300分钟的足够时间段，优选地从45分钟至100分钟。