[发明专利]一种测试结构及其布设方法有效

专利信息
申请号: 201611147621.8 申请日: 2016-12-13
公开(公告)号: CN107046020B 公开(公告)日: 2019-07-26
发明(设计)人: 赵毅;瞿奇;陈玉立;彭飞;田武;梁卉荣 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及半导体测试技术,尤其涉及一种测试结构及其布设方法,设置多个焊盘并于每个焊盘底部设置一个下部电路,包括一第一焊盘,一第二焊盘,一第三焊盘和多个第四焊盘;于每个下部电路中设置数量相同且按方位分布的多个NMOS晶体管;采用第一组连线将所有NMOS晶体管的源极并联至第一焊盘上;采用第二组连线将所有NMOS晶体管的衬底并联至第二焊盘上;采用第三组连线将所有NMOS晶体管的栅极并联至第三焊盘上;采用第四组连线将相同位置上的NMOS晶体管的漏极并联至一个第四焊盘上,不同位置的NMOS晶体管对应不同的第四焊盘,能够同时测试多个测试结构,并分析下部电路中处于不同方位的NMOS晶体管的漏极电流变化情况,最终定位到探针卡上扎针位置的偏移方向。
搜索关键词: 一种 测试 结构 及其 布设 方法
【主权项】:
1.一种测试结构,应用于晶片允收测试过程,其特征在于,包括:多个焊盘;下部电路;每个所述焊盘底部分别设置有一个所述下部电路;所述焊盘包括一第一焊盘,一第二焊盘,一第三焊盘和多个第四焊盘;每个所述下部电路包括数量相同且按方位分布的多个NMOS晶体管;第一组连线,将所有所述NMOS晶体管的源极并联至所述第一焊盘上;第二组连线,将所有所述NMOS晶体管的衬底并联至所述第二焊盘上;第三组连线,将所有所述NMOS晶体管的栅极并联至所述第三焊盘上;第四组连线,将相同位置上的所述NMOS晶体管的漏极并联至一个所述第四焊盘上,并且不同位置的所述NMOS晶体管对应不同的所述第四焊盘。
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