[发明专利]一种基于多分级结构的吸声材料及其制备方法有效
申请号: | 201611146965.7 | 申请日: | 2016-12-13 |
公开(公告)号: | CN108615520B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 陈磊;张涛;周勇;刘思畅;李卓达;夏雅男 | 申请(专利权)人: | 航天特种材料及工艺技术研究所 |
主分类号: | G10K11/172 | 分类号: | G10K11/172 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100074 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于多分级结构的吸声材料及其制备方法,本发明以亥姆霍兹共振腔为结构最小基础单元,使入射声波在结构内产生共振,从而使大量能量耗逸,实现单峰强吸声功能;并引入自相似多分级的共振腔结构实现多频率协同共振,实现多峰宽域吸声功能;利用分形几何概念优化多分级共振腔的排布与大小,实现有效吸声频域宽度与吸声系数的整体调控。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 分级 结构 吸声材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于多分级结构的吸声材料,其特征在于,所述吸声材料包含n个层级的共振腔,所述各个层级共振腔的尺寸设计如下:假设所需吸声材料的共振频率为f1~fn,具体为:1)确定各层级单个共振腔尺寸选取共振腔体积为主要控制尺寸,则可以在给定共振腔开口面积S和腔口直径d的条件下由基于亥姆霍兹共振腔的共振频率计算公式即式(1)确定共振腔体积的变化范围V1~Vn,
其中,c为声速,S为共振腔开口面积,l为共振腔腔口深度,d为共振腔腔口直径,V为共振腔体积;所述共振腔腔口深度l为:0.5mm≤l≤2mm;2)共振腔具体分级选择多分级共振腔的体积序列如式(2)所示:
其中,n为分级级数,n≥2,满足Vi+1
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