[发明专利]一种基于多分级结构的吸声材料及其制备方法有效
申请号: | 201611146965.7 | 申请日: | 2016-12-13 |
公开(公告)号: | CN108615520B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 陈磊;张涛;周勇;刘思畅;李卓达;夏雅男 | 申请(专利权)人: | 航天特种材料及工艺技术研究所 |
主分类号: | G10K11/172 | 分类号: | G10K11/172 |
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地址: | 100074 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 分级 结构 吸声材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种基于多分级结构的吸声材料,其特征在于,所述吸声材料包含n个层级的共振腔,所述各个层级共振腔的尺寸设计如下:
假设所需吸声材料的共振频率为f1~fn,具体为:
1)确定各层级单个共振腔尺寸
选取共振腔体积为主要控制尺寸,则在给定共振腔开口面积S和腔口直径d的条件下由基于亥姆霍兹共振腔的共振频率计算公式即式(1)确定共振腔体积的变化范围V1~Vn,
其中,c为声速,S为共振腔开口面积,l为共振腔腔口深度,d为共振腔腔口直径,V为共振腔体积;
所述共振腔腔口深度l为:0.5mm≤l≤2mm;
2)共振腔具体分级选择
多分级共振腔的体积序列如式(2)所示:
其中,n为分级级数,n≥2,满足Vi+1<Vi<Vi-1;
且所述每个层级共振腔总体积V'满足式(3),
V/2n≤V'≤2V/n (3)
其中V为吸声材料总体积,且n级共振腔的总体积之和小于V;
所述n个层级的共振腔的位置分布为:应用几何拓扑学安排每个层级共振腔的位置。
2.根据权利要求1所述的一种基于多分级结构的吸声材料,其特征在于:所述n个层级的共振腔中,每个层级共振腔为对称的形状。
3.根据权利要求1所述的一种基于多分级结构的吸声材料,其特征在于:所述n小于等于20。
4.一种基于多分级结构的吸声材料的制备方法,其特征在于,通过以下步骤实现:
步骤1、多分级共振腔的设计:假设所需吸声材料的共振频率为f1~fn,具体设计如下:
1)确定各层级单个共振腔尺寸
选取共振腔体积为主要控制尺寸,则在给定共振腔开口面积S和腔口直径d的条件下由式(1)确定共振腔体积的变化范围V1~Vn,
其中,c为声速,S为共振腔开口面积,l为共振腔腔口深度,d为共振腔腔口直径,V为共振腔体积;
所述共振腔腔口深度l为:0.5mm≤l≤2mm;
2)共振腔具体分级选择
多分级共振腔的体积序列如式(2)所示:
其中,n为分级级数,n≥2,且满足Vi+1<Vi<Vi-1;
步骤2、多分级共振腔的排布
由步骤1得到的n级共振腔,其中,每个层级共振腔总体积V'满足式(3):
V/2n≤V'≤2V/n (3)
其中V为吸声材料总体积,且n级共振腔的总体积之和小于V;
根据所得各个层级的共振腔,应用几何拓扑学安排每个层级共振腔的位置;
步骤3、制造上述设计好的吸声材料。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于:所述n小于等于20。
6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于:所述n个层级的共振腔中,每个层级共振腔为对称的形状。
7.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述制造方法为:根据根据步骤2得到的设计结果画出三维图样,选择合适的原材料和相应的3D打印技术成型出吸声材料。
8.根据权利要求4所述的方法,其特征在于:所述共振腔采用共振贴片或共振薄膜替代。
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