[发明专利]一种氨基修饰介孔二氧化硅纳米粒的制备方法在审

专利信息
申请号: 201611125380.7 申请日: 2016-12-09
公开(公告)号: CN106491562A 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 张俊 申请(专利权)人: 陕西易阳科技有限公司
主分类号: A61K9/51 分类号: A61K9/51;A61K47/04
代理公司: 西安亿诺专利代理有限公司61220 代理人: 康凯
地址: 710000 陕西省西安*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种氨基修饰介孔二氧化硅纳米粒的制备方法,其特征在于包括以下步骤称取CTAB 0.08 g溶于13m1无水乙醇中与27.5 m1超纯水的混合液中,室温搅拌25‑50 min;本发明所述方法制备的氨基修饰介孔二氧化硅纳米粒具有较高的载药量及包封率有较好负载效率,有效解决了纳米载体载药量较低的问题。
搜索关键词: 一种 氨基 修饰 二氧化硅 纳米 制备 方法
【主权项】:
一种氨基修饰介孔二氧化硅纳米粒的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)称取CTAB 0.08 g溶于13m1无水乙醇中与27.5 m1超纯水的混合液中,室温搅拌25‑50 min;(2)待溶液澄清透明时加入25%~28%氨水0.5 ml,升温至80℃,搅匀后逐滴加入TEOS 0.5m1,快速搅拌30min后缓慢加入APTES 0.5ml,保温继续反应2h;(3)反应结束后静置熟化8‑15h,以1l 380×g离心15 min;(4)取白色沉淀,依次用超纯水和无水乙醇洗涤3次,每次10 ml,再于100℃干燥得白色固体粉末O.5 g;(5)将得到固体粉末分散于10 mg/ml硝酸铵的乙醇溶液100 ml中,80℃回流10 h以除去模板剂CTAB,离心(11 380xg)15 min,取白色沉淀于60℃减压干燥12 h得固体粉末0.45 g,即得。
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