[发明专利]一种菲涅尔器件的制作方法及制作装置有效
| 申请号： | 201611125124.8 | 申请日： | 2016-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN106646691B | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 张瑾;陈林森;浦东林;朱鹏飞 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G02B3/08 | 分类号： | G02B3/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 唐静芳 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种菲涅尔器件的制作方法，其包括以下步骤：1)图像3D建模；2)将建模后的3D图，按照菲涅尔的变化规律进行量化处理；3)通过等高投影或等宽投影进行像素微结构模拟；4)像素化拼接；5)通过光刻工艺至整个图像光刻完成；6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。本发明还提供了一种菲涅尔器件的制作装置。本发明与现有技术相比，可以实现任意形状的菲涅尔器件；且尺寸不受限制，通过拼版等工艺，可以做大尺寸的菲涅尔器件；且该方法降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 菲涅尔 制作装置 投影 变化规律 光刻工艺 量化处理 模板转移 应用材料 等宽 受限制 图像光 微结构 像素化 等高 建模 拼版 像素 拼接 制作 图像 | ||
【主权项】：
1.一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1)图像3D建模；2)将建模后的3D图，按照菲涅尔的变化规律进行量化处理；3)通过等高投影或等宽投影将有倾斜角度的条纹疏密图或有倾斜角度的灰度图来进行像素微结构模拟；4)像素化拼接；5)通过光刻工艺将整个图像光刻完成；6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。
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