[发明专利]一种菲涅尔器件的制作方法及制作装置有效
| 申请号： | 201611125124.8 | 申请日： | 2016-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN106646691B | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 张瑾;陈林森;浦东林;朱鹏飞 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G02B3/08 | 分类号： | G02B3/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 唐静芳 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 菲涅尔 制作装置 投影 变化规律 光刻工艺 量化处理 模板转移 应用材料 等宽 受限制 图像光 微结构 像素化 等高 建模 拼版 像素 拼接 制作 图像 | ||
1.一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)图像3D建模；
2)将建模后的3D图，按照菲涅尔的变化规律进行量化处理；
3)通过等高投影或等宽投影将有倾斜角度的条纹疏密图或有倾斜角度的灰度图来进行像素微结构模拟；
4)像素化拼接；
5)通过光刻工艺将整个图像光刻完成；
6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。
2.根据权利要求1所述的一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，所述步骤2)中，量化后将图像分解为位置变量、取向角度变量和坡度变量。
3.根据权利要求2所述的一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，将每一个具有取向角和坡度的像素微结构进行像素化拼接。
4.根据权利要求1所述的一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，所述步骤3)中，所述等高投影为微结构在模拟后通过有倾斜角度的像素条纹疏密图来表示；其中：所述微结构的坡度用条纹疏密来表示；所述微结构的角度为取向角，用条纹的倾斜角度来表示。
5.根据权利要求4所述的一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，所述步骤4)中，采用空间光调制器将像素条纹疏密图按序在记录材料上光刻，并控制二位移动平台相应移位，直至整个图像光刻完成。
6.根据权利要求1所述的一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，所述步骤3)中，所述等宽投影为微结构在模拟后通过有倾斜角度的像素灰度图来表示；其中：所述微结构的坡度用灰度来表示；所述微结构的角度为取向角，用灰度倾斜角度来表示。
7.根据权利要求6所述的一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，所述步骤4)中，采用空间光调制器将像素灰度图按序在记录材料上光刻，并控制二位移动平台相应移位，直至整个图像光刻完成。
8.根据权利要求1所述的一种菲涅尔器件的制作方法，其特征在于，所述步骤5)中，经显影处理完成任意形状菲涅尔器件的模板制作，再经过后续工序，最终转移到应用材料上。
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