[发明专利]一种具有高硬度和高减摩性能的纳米涂层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610979551.6 申请日: 2016-11-08
公开(公告)号: CN106521438A 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 李伟;刘京京;刘平;张柯;马凤仓;刘新宽;陈小红;何代华 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司31001 代理人: 吴宝根
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明一种具有高硬度和高减摩性能的纳米涂层,在基体上通过多靶磁控溅射方式交替溅射沉积形成CrAlN纳米层和WS2纳米层,靠近基体为CrAlN纳米层,最外侧的一层为WS2纳米层,CrAlN/WS2纳米多层涂层的总厚度2.0‑4.5μm,每一CrAlN纳米层厚度5.0nm,每一WS2纳米层厚度0.4‑1.2nm。还提供了上述纳米涂层的制备方法,将清洗后的基体置入多靶磁控溅射仪中,在氩、氮混合气氛中交替停留在CrAl合金靶和WS2靶之前,通过调整CrAl靶和WS2靶的功率和沉积时间以控制每一涂层的厚度,最终得CrAlN/WS2纳米多层涂层,本发明的方法具有工艺简单、沉积速度快、成本低、生产效率高等优点。
搜索关键词: 一种 具有 硬度 高减摩 性能 纳米 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有高硬度和高减摩性能的纳米涂层,其特征在于:在基体上通过多靶磁控溅射的方式交替溅射沉积形成CrAlN纳米层和WS2纳米层,靠近基体的一层为CrAlN纳米层,最外侧的一层为WS2纳米层;所述基体为金属、硬质合金或陶瓷。
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