[发明专利]一种有效去除光阻的方法在审
| 申请号： | 201610949917.5 | 申请日： | 2016-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN106547179A | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 徐晓强;彭璐;闫宝华;刘琦 | 申请（专利权）人： | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/027 |
| 代理公司： | 济南日新专利代理事务所37224 | 代理人： | 王书刚 |
| 地址： | 261061 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种有效去除光阻的方法，包括如下步骤（1）将带有光阻的基底平放，蘸取去光阻液进行表面擦拭；（2）将擦拭后的基底放置在去光阻液中进行涮洗，一次涮洗完成后进行超声浸泡，然后进行二次涮洗；（3）将基底放入丙酮中涮洗，然后再放置在无水乙醇溶液中涮洗；（4）将基底水洗后，使用氮气吹干或者旋干机进行旋干。该方法通过对基底表面进行擦片处理，然后通过去光阻液的清洗，能够彻底去除光阻，避免了传统去光阻工艺中的多级去光阻液的长时间超声浸泡，很大程度上减少了对基底本身结构的破坏，步骤简便，耗时少，完全做到了快速高效的去除光阻，能够实现较短时间的大规模生产，通过本发明处理的基底，表面洁净，无残留光阻。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有效 去除 方法 | ||
【主权项】：
一种有效去除光阻的方法，其特征是，包括如下步骤：（1）去光阻液擦拭：将带有光阻的基底平放，蘸取去光阻液进行表面擦拭；（2）去光阻液涮洗和超声：将擦拭后的基底放置在去光阻液中进行涮洗，一次涮洗完成后进行超声浸泡，然后进行二次涮洗；（3）丙酮和乙醇涮洗：将基底放入丙酮中涮洗，然后再放置在无水乙醇溶液中涮洗；（4）水洗和干燥：将基底水洗后，使用氮气吹干或者旋干机进行旋干。
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